French, R. H., Francis Carcia, P. H., Hughes, G. H., Torardi, C. H., Reynolds, G. H., & Dieu, L. H.(1999).Thin Films for Phase-shift Masks.Vaccum and Thin Film.
French, R. H., Francis Carcia, P. H., Reynolds, G. H., Hughes, G. H., Torardi, C. H., Jones, D. H., & Dieu, L. H.(1999).Optical superlattices as phase-shift masks for microlithography.Proceedings of SPIE,3790
French, R. H., Reynolds, G. H., Francis Carcia, P. H., Torardi, C. H., Hughes, G. H., & Jones, D. H.(1998).{TiSi-nitride} attenuating phase-shift photomask for 193 nm lithography.SPIE,3546
