French, R. H., Qiu, W. H., Yang, S. H., Wheland, R. H., Lemon, M. H., Shoe, A. H., Adelman, D. H., Crawford, M. H., Tran, H. H., Feldman, J. H., McLain, S. H., & Peng, S. H. (2006). Second generation fluids for 193nm immersion lithography. .
